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GIR센터 방법론/대규모 방법론

반도체산업에서 화학증기증착(CVD)반응기 세정을 위한 PFC가스의 교체에 관한 방법론

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방법론
명 칭
반도체산업에서 화학증기증착(CVD)반응기 세정을 위한 PFC가스의 교체
방법론
분 야
할로겐화탄소, 육불화항 생산및소비로부터의 탈루배출 - 온실가스 포집 및 파괴
방법론
고 유
번 호
11B-AM0092
방법론
종 류
CDM
등 록
형 태
직권등록

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